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岱美光學(xué)鏡頭組裝工藝解析
2025-09-18

光學(xué)鏡頭作為成像系統(tǒng)的核心部件,其組裝工藝的精密程度直接影響成像質(zhì)量與產(chǎn)品穩(wěn)定性。岱美光學(xué)憑借多年技術(shù)積累,構(gòu)建了一套涵蓋材料預(yù)處理、精密裝配、多級(jí)檢測(cè)的全流程工藝體系。本文將從工藝流程、關(guān)鍵技術(shù)、質(zhì)量控制三個(gè)維度,深度解析岱美光學(xué)鏡頭組裝...

  • 2023-03-08

    應(yīng)力測(cè)量?jī)x是一種非常重要的儀器設(shè)備,廣泛應(yīng)用于各個(gè)行業(yè)中的檢測(cè)、測(cè)量、測(cè)試等工作中。它的原理和特點(diǎn)極其受到人們的關(guān)注,接下來(lái)我們來(lái)仔細(xì)解析一下。1.原理:本儀器的原理主要是基于引伸計(jì)原理,即用金屬的彈性變形作為測(cè)量物理量的基礎(chǔ)。當(dāng)受到外力作用時(shí),金屬材料會(huì)產(chǎn)生彈性變形,這種變形與外力大小和材料的性質(zhì)有關(guān)。通過(guò)將應(yīng)變信號(hào)轉(zhuǎn)換為電信號(hào),利用電路將電信號(hào)放大一定倍數(shù)以后測(cè)量讀數(shù),即可得到材料受力情況的數(shù)據(jù)。不同類(lèi)型的應(yīng)力測(cè)量?jī)x,其原理會(huì)有所不同。2.特點(diǎn):(1)精度高:由于應(yīng)力測(cè)量...

  • 2023-03-02

    光刻技術(shù)與我們的生活息息相關(guān),我們用的手機(jī),電腦等各種各樣的電子產(chǎn)品,里面的芯片制作離不開(kāi)光科技束。如今的世界是一個(gè)信息社會(huì),各種各樣的信息流在世界流動(dòng)。而光刻機(jī)是保證制造承載信息的載體。在社會(huì)上擁有不可替代的作用。掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)系統(tǒng)增加了對(duì)準(zhǔn)精度,該系列包括了光刻機(jī)、W2W接合曝光和對(duì)準(zhǔn)檢測(cè)設(shè)備。1、光刻機(jī):分別可以處理從小于5mm到150mm和從3英寸到200mm襯底-擁有一系列先進(jìn)的功能和特點(diǎn),包括一個(gè)花崗巖基座、主動(dòng)式隔振裝置和線(xiàn)性馬達(dá),以達(dá)到更高的精度和生產(chǎn)量要求。...

  • 2023-02-26

    近幾十年來(lái),隨著微電子技術(shù)的發(fā)展,高性能、小外形、低成本的電子產(chǎn)品已成為市場(chǎng)的基本需求。集成電路上可容納元器件的數(shù)目是符合摩爾定律預(yù)測(cè)的。但是近年來(lái)傳統(tǒng)的集成電路增長(zhǎng)趨勢(shì)開(kāi)始和摩爾定律的理想模型出現(xiàn)了差別。隨著手機(jī)和各種電子產(chǎn)品的快速發(fā)展,芯片的功能也越來(lái)越復(fù)雜,芯片上集成晶體管的數(shù)目也隨著越來(lái)越多,同時(shí)也引起了集成電路體積的增大和功耗增高。當(dāng)晶體管的柵極長(zhǎng)度和氧化層厚度都接近物理極限的時(shí)候,二維集成最終將走到道路的盡頭。遵循摩爾定律的三維集成技術(shù)可以作為解決上述問(wèn)題的方案。...

  • 2023-02-24

    晶圓鍵合機(jī)的晶圓級(jí)三維集成是一個(gè)新的概念,利用許多高級(jí)技術(shù)實(shí)現(xiàn)電路密度的增加和體積的縮小。下面介紹三項(xiàng)重要的關(guān)鍵技術(shù)。1、對(duì)準(zhǔn)和鍵合:對(duì)準(zhǔn)不精確導(dǎo)致電路故障或可靠性差。因此,對(duì)準(zhǔn)精度的高低主導(dǎo)了的晶片接觸面積和三維集成電路堆疊的成品率。對(duì)準(zhǔn)精度與對(duì)準(zhǔn)器和對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記有關(guān)。也受操作員個(gè)人經(jīng)驗(yàn)的影響。銅被廣泛用于標(biāo)準(zhǔn)CMOS制造中。因此,銅是三維集成中連接兩個(gè)設(shè)備層或晶圓的較好的選擇。銅晶圓鍵合的原理是讓兩個(gè)晶片接觸然后熱壓縮。在鍵合過(guò)程中,兩個(gè)晶片的銅層可以相互擴(kuò)散以完成鍵合過(guò)程。...

  • 2023-02-22

    光刻機(jī),是一個(gè)全新的、已經(jīng)被生產(chǎn)廠(chǎng)家驗(yàn)證過(guò)的新型光刻曝光機(jī)以及晶圓對(duì)晶圓(W2W)接合曝光和測(cè)試系統(tǒng),可滿(mǎn)足用戶(hù)對(duì)更高光刻精度的需求。業(yè)內(nèi)向更小結(jié)構(gòu)和更密集封裝生產(chǎn)轉(zhuǎn)型的趨勢(shì)帶來(lái)了眾多的新挑戰(zhàn),如對(duì)更高精度的要求,因?yàn)檫@將嚴(yán)重影響設(shè)備的偏差律,并最終影響生產(chǎn)效率和增加成本。它應(yīng)用的系統(tǒng)可提高對(duì)準(zhǔn)精度,范圍從1μm-0.1μm,從而為生產(chǎn)廠(chǎng)家在先進(jìn)微電子、化和物半導(dǎo)體、硅基電功率、三維集成電路和納米等幾乎所有相關(guān)產(chǎn)業(yè)提供了解決方案。它的技術(shù)原理:光刻機(jī)就是把芯片制作所需要的線(xiàn)路...

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