納米壓印技術(shù)是上世紀(jì)90年代Stephen Y Chou，針對(duì)傳統(tǒng)光刻受波長(zhǎng)限制提出的類(lèi)似于模板刻印的一種技術(shù)。

 

　　納米壓印機(jī)是一種非常靈活的壓印設(shè)備。它可提供加熱型納米壓印、UV紫外納米壓印以及真空納米壓印。模塊化系統(tǒng)可根據(jù)特定需求輕松配置，體積小，容易存放，大可處理210mm圓形的任何尺寸印章和基材。該系統(tǒng)是手動(dòng)裝卸印章和模板，但所有處理器都是全自動(dòng)的，軟件用戶(hù)可以*控制壓印過(guò)程。

 

　　它的原理是：

　　將具有納米結(jié)構(gòu)的模板通過(guò)一定壓力，壓入加熱的熔融的高分子薄膜內(nèi)，待高分子材料冷卻，納米結(jié)構(gòu)定型，移去模板，然后再通過(guò)等離子體刻蝕等傳統(tǒng)的微電子加工手段把結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到基底上。 

 

　　納米壓印機(jī)擁有以下優(yōu)勢(shì)：

　　1、分辨率優(yōu)于10μm，產(chǎn)率優(yōu)于99%；

　　2、同時(shí)適用于軟模和剛性模板；

　　3、自動(dòng)脫模，防止模板和基板損壞；

　　4、可壓印不同尺寸的模板和基片，方便靈活；

　　5、可編程的PLC觸屏界面；

　　6、對(duì)準(zhǔn)選項(xiàng)。

 

　　可支持壓印工藝：

　　1、納米壓印模板自動(dòng)脫離工藝-減少納米壓印結(jié)構(gòu)缺陷；

　　2、納米壓印膠點(diǎn)膠裝置-可過(guò)濾0.20um的雜質(zhì)，保證壓印效果；

　　3、納米壓印單層壓印工藝-適合刻蝕（etching）工藝；

　　4、納米壓印雙層壓印工藝-適合剝離（lift-off）工藝；

　　5、納米壓印程序設(shè)定及優(yōu)化工藝-可掌握納米壓印關(guān)鍵技巧；

　　6、納米壓印模板抗粘層處理及材料-可對(duì)模板進(jìn)行抗粘層處理；

　　7、納米壓印模板復(fù)制工藝-可完成復(fù)制母版工藝；

　　8、納米壓印快速模板轉(zhuǎn)換工藝-可使用硅模板簡(jiǎn)單轉(zhuǎn)化并實(shí)現(xiàn)UV壓印工藝；

　　9、納米壓印軟膜壓印工藝-提供完整的軟膜壓印工藝，可完成曲面壓印并減少壓印結(jié)構(gòu)缺陷。