接觸式光刻機(jī)是一種用于信息科學(xué)與系統(tǒng)科學(xué)、能源科學(xué)技術(shù)、電子與通信技術(shù)領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器。

 

　　主要構(gòu)成：

　　主要由對準(zhǔn)工作臺、雙目分離視場CCD顯微顯示系統(tǒng)、LED曝光頭、PLC電控系統(tǒng)、氣動系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵、二級防震工作臺和附件箱等組成。

 

　　接觸式光刻機(jī)的使用原理：

　　其實(shí)在我國對于接觸式光刻機(jī)，曝光時(shí)掩模壓在光刻膠的襯底晶片上，其主要優(yōu)點(diǎn)是可以使用價(jià)格較低的設(shè)備制造出較小的特征尺寸。

　　我們也許不知道接觸式光刻和深亞微米光源已經(jīng)達(dá)到了小于0.1 gm的特征尺寸，常用的光源分辨率為0.5 gm左右。接觸式光刻機(jī)的掩模版包括了要復(fù)制到襯底上的所有芯片陣列圖形。在襯底上涂上光刻膠，并被安裝到一個由手動控制的臺子上，臺子可以進(jìn)行X、y方向及旋轉(zhuǎn)的定位控制。

　　在操作過程中掩模版和襯底晶片需要通過分立視場的顯微鏡同時(shí)觀察，這樣操作者用手動控制定位臺子就能把掩模版圖形和襯底晶片上的圖形對準(zhǔn)了。經(jīng)過紫外光曝光，光線通過掩模版透明的部分，圖形就轉(zhuǎn)移到了光刻膠上。接觸式光刻機(jī)的主要缺點(diǎn)是依賴于人操作，由于涂覆光刻膠的圓片與掩模的接觸會產(chǎn)生缺陷，每一次接觸過程，會在圓片和掩模上都造成一定的缺陷。因此，接觸式光刻機(jī)一般用于能容忍較高缺陷水平的器件研究和其他應(yīng)用方面。